Marktbericht zur extremen Ultraviolett-Lithographie: Größe, Marktanteil und Trendanalyse nach Produkttyp (Lichtquellen, Spiegel, Masken), nach Typ (Gießereien, integrierte Gerätehersteller (IDMS)) und nach Region (Nordamerika, Europa, Asien-Pazifik, Naher Osten und Afrika, Lateinamerika) – Prognosen für 2026–2034

Marktgröße für extreme Ultraviolett-Lithographie

Der globale Markt für extreme Ultraviolett-Lithografie (EUV-Lithografie) hatte 2025 ein Volumen von 23,64 Milliarden US-Dollar und soll von 25,95 Milliarden US-Dollar im Jahr 2026 auf 54,66 Milliarden US-Dollar im Jahr 2034 anwachsen, was einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 9,76 % im Prognosezeitraum von 2026 bis 2034 entspricht. Taiwan dominierte den EUV-Lithografie-Markt mit einem Marktanteil von 31,5 % im Jahr 2025.

Eine der führenden Lithografietechniken der nächsten Generation (NGL) zur Herstellung von nur 30 nm dünnen Strukturen sowie von Mikroprozessoren und Mikrochips ist die extreme Ultraviolett-Lithografie (EUVL). Dieses Verfahren könnte die optische Lithografie, die derzeit für die Entwicklung von Mikroschaltungen eingesetzt wird, ablösen. Dabei werden ultraviolette Festkörperlichtstrahlen, die von einem Siliziumwafer reflektiert werden, mithilfe des EUVL-Systems in den Siliziumwafer eingebrannt.

Produkt-Einblicke

Das Maskensegment trägt am meisten zum Markt bei und wird im Prognosezeitraum voraussichtlich mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 16,56 % wachsen. Eine typische Maske ist eine undurchsichtige Platte oder Folie mit transparenten Bereichen, die das Licht in einem bestimmten Muster durchscheinen lässt. Masken werden häufig in der Fotolithografie zur Herstellung von Halbleiterchips eingesetzt. Sie sind in verschiedenen Größen erhältlich und in unterschiedlichen Ausführungen verfügbar, darunter optische Masken und EUV-Masken. Das Wachstum des Marktes für Flachbildschirme (FPD) aufgrund des vermehrten Einsatzes von Operationsverstärkern und der zunehmenden Automatisierung von Systemen in verschiedenen Branchen dürfte erhebliche Chancen für die Entwicklung von Fotomasken eröffnen.

Trotz anfänglicher Schwierigkeiten in nahezu allen Bereichen der EUV-Lithografie (EUVL) hat sich diese Technologie als eines der vielversprechendsten Lithografieverfahren der nächsten Generation etabliert. Kommerzielle Step-and-Scan-Vorproduktionsanlagen sind mittlerweile im Einsatz und voll funktionsfähig. Die EUV-Lithografie nutzt Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern, die mehr als 14-mal kürzer ist als die von DUV-Licht. Dank der extrem kurzen Wellenlänge ist es möglich, eine kleine numerische Apertur zu verwenden und die Selbstvignettierung in vollreflektierenden Optiken zu vermeiden. Die Technologie zur Erzeugung von EUV-Lichtquellen mittels lasererzeugtem Plasma (LPP) wurde von ASML, einem der führenden Anbieter von EUV-Systemen, entwickelt.

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Typen-Einblicke

Das Gießereisegment hält den größten Marktanteil und wird im Prognosezeitraum voraussichtlich mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 17,19 % wachsen.

Die EUV-Lithografie gewinnt aufgrund der zunehmenden Verbreitung dieser Technologie in der Chip- und Waferfertigung durch verschiedene Auftragsfertiger, darunter Samsung, TSMC und andere, immer mehr an Bedeutung. TSMC Taiwan plant, bis Ende 2022 die Serienproduktion von 3-nm-Produkten aufzunehmen und damit den internationalen Auftragsfertigermarkt zu dominieren. Samsung Electronics will TSMC im Jahr 2030 mit seiner EUV-Lithografietechnologie überholen. Bereits 2024 plant das Unternehmen die Produktion von Produkten im 2-nm-Verfahren. Um die steigende Nachfrage zu decken, haben TSMC und Sony Semiconductor Solutions (SSS) zudem eine Partnerschaft geschlossen und in Kumamoto, Japan, die Japan Advanced Semiconductor Manufacturing Co. Ltd (JASM) gegründet, um Auftragsfertigerdienstleistungen für den 22/28-nm-Prozess anzubieten.

Ein integrierter Gerätehersteller (IDM) ist ein Halbleiterunternehmen, das integrierte Schaltungen (ICs) produziert, entwickelt und vertreibt. Ein traditioneller IDM besitzt eigene, lokal vermarktete Chips, entwickelt seine ICs intern und verfügt über eigene Produktionsanlagen. Die Weiterentwicklung des Marktes ist jedoch auf die steigenden Investitionen der IDM-Unternehmen in Forschung und Entwicklung (F&E) zurückzuführen. Diese Investitionen verbessern ihre F&E-Aktivitäten und entwickeln technisch fortschrittliche Halbleiter-ICs, Sensoren, RFID-Schaltungen und System-on-Chips. Um ihre IC-Produktionskapazitäten zu erhöhen, arbeiten diese Unternehmen häufig mit Anbietern von Halbleiterfertigungsanlagen zusammen. Die Branchenteilnehmer legen großen Wert auf die Optimierung ihrer IC-Fertigungsanlagen. Daher wird ein Anstieg der Marktnachfrage nach Anlagen zur Halbleiterfertigung prognostiziert.

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Regionale Einblicke

Taiwan ist der bedeutendste Umsatzträger und wird im Prognosezeitraum voraussichtlich mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 18,44 % wachsen. Taiwan genießt auf dem internationalen Markt einen Wettbewerbsvorteil. Der Markt für extreme Ultraviolett-Lithografie (EUV) in Taiwan expandiert unter anderem aufgrund der Expansion von TSMC nach Taiwan und steigender Investitionen in die EUV-Lithografietechnologie. Taiwan erzielt den größten Umsatzanteil an der EUV-Lithografie im asiatisch-pazifischen Raum und investiert zudem erheblich in diese Technologie.

So entschied sich Micron Technology beispielsweise im September 2021 für die Installation der neuesten Lithografieanlage NXE:3600D von ASML. Darüber hinaus wird Micron Technology dieselbe EUV-Lithografieanlage in seinem taiwanesischen DRAM-Werk einsetzen. Taiwan wird der Standort für die erste EUV-DRAM-Produktion von Micron Technology sein, und das Unternehmen plant, seine Investitionen dort in den kommenden Jahren weiter auszubauen.

Markttrends in Südkorea

Südkorea wird im Prognosezeitraum voraussichtlich ein jährliches Wachstum von 16,98 % verzeichnen. Angesichts der zunehmenden Miniaturisierung von Halbleiterstrukturen hat Südkorea die Bedeutung der EUV-Lithografie erkannt. Sie bietet eine ideale und effiziente Option für Anwendungen der nächsten Generation wie KI, 5G und die Automobilindustrie und ermöglicht die Miniaturisierung komplexer Strukturen auf Wafern. Im November 2021 unterzeichnete ASML Holding, ein niederländischer Hersteller von Chipmaschinen, einen Vertrag zum Aufbau eines Lithografie-Clusters in Südkorea mit Investitionen in Höhe von 240 Milliarden SKW (202 Millionen USD) bis 2024. Zahlreiche südkoreanische Halbleiterunternehmen haben bereits Systeme für die Tief-Ultraviolett- und Extrem-Ultraviolett-Lithografie von ASML erhalten.

Die USA sind aufgrund ihrer kontinuierlichen technologischen Fortschritte ein bedeutender Markt für EUV-Lithografiesysteme. Die Nachfrage nach Mikrochips steigt parallel zu den Anforderungen an künstliche Intelligenz (KI), 5G-Konnektivität, Augmented Reality und viele weitere Systeme. Dies eröffnet den Akteuren auf dem US-amerikanischen EUV-Lithografiemarkt erhebliche Chancen. Hersteller möchten Kunden, die auf neueste Technologien wie 5G setzen, Verfahren oder Lösungen anbieten, da die Nachfrage nach autonomen Fahrzeugen in den USA zunimmt.

Länder wie die Niederlande, China, Deutschland und Japan gehören zu diesen anderen Regionen. Der Weltmarkt wird von ASMLs neuem Schulungszentrum profitieren. Obwohl das Unternehmen der größte Name im europäischen Halbleitermaschinenbau ist, ist sein größter Kunde der bekannteste taiwanesische Hersteller. Laut Asian Nikkei Review erhielt TSMC 20 der 35 EUV-Systeme, die ASML 2021 auslieferte. Das niederländische Unternehmen schafft die Grundlage für zukünftige Verkäufe, indem es die Mitarbeiter des Chipherstellers mit seinen Anlagen vertraut macht. Bis 2023 rechnet ASML dank der Eröffnung eines neuen Forschungs- und Entwicklungszentrums in Taiwan mit über 500 Mitarbeitern vor Ort. Angesichts der Handelsspannungen mit den Vereinigten Staaten nutzen chinesische Halbleiterhersteller Chipfertigungsanlagen, um die Produktion im Inland zu beschleunigen. Diese Situation treibt die Preise für verschiedene Anlagenteile auf dem japanischen Gebrauchtmarkt in die Höhe. Händler gebrauchter Anlagen in Japan berichten von einem Preisanstieg von 20 % innerhalb nur eines Jahres. Die US-Sanktionen gegen China gelten nicht für ältere Maschinen, sodass chinesische Anbieter uneingeschränkten Zugang haben. Als Folge davon werden sich in den kommenden Jahren durch den Markt für extreme Ultraviolett-Lithographie in China und Japan entscheidende Chancen für die Akteure ergeben.

Regionale Einblicke freischaltenum auf länderspezifische Daten und regionale Trends zuzugreifen.

Liste der wichtigsten und aufstrebenden Akteure in Markt für extreme Ultraviolett-Lithographie