极紫外光刻市场规模、份额及趋势分析报告(按产品类型(光源、反射镜、掩模)、类型(代工厂、集成器件制造商 (IDM))和地区(北美、欧洲、亚太、中东和非洲、拉丁美洲)划分)预测,2026-2034 年

最后更新: August 24, 2026 | 作者: Tejas Zamde | 格式:

极紫外光刻市场规模

2025年全球极紫外光刻市场规模为236.4亿美元,预计将从2026年的259.5亿美元增长到2034年的546.6亿美元,在2026年至2034年的预测期内,复合年增长率为9.76%。台湾在极紫外光刻市场占据主导地位,2025年的市场份额为31.5%。

极紫外光刻(EUVL)是用于印刷细至30纳米线条并制造微处理器和微芯片的下一代光刻(NGL)技术中的佼佼者。这种方法有望取代目前用于微电路设计的光学光刻技术。EUVL系统利用从硅片反射的紫外光束,将光刻技术产生的图案烧蚀到硅片上。

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产品洞察

掩模是市场中贡献最大的部分,预计在预测期内将以16.56%的复合年增长率增长。典型的掩模是一种不透明的板或薄膜,其上带有透明区域,光线可以以特定图案穿过。掩模常用于制造半导体芯片的光刻工艺中,并有多种尺寸可供选择。掩模种类繁多,包括光学掩模和极紫外光刻掩模。由于运算放大器的广泛应用以及各行业自动化系统的激增,平板显示器(FPD)的增长预计将为光掩模的开发带来巨大的机遇。

尽管自诞生以来,极紫外光刻(EUVL)技术几乎在各个领域都面临诸多挑战,但它已成为最有前景的下一代光刻方法之一。目前,商用步进扫描式预生产设备已安装完毕并投入使用。EUV光刻采用波长为13.5纳米的光,其波长比深紫外(DUV)光短14倍以上。由于波长极短,因此可以使用较小的数值孔径,并避免全反射光学器件中的自渐晕问题。利用激光等离子体(LPP)技术制造EUV光源的技术由EUV系统顶级供应商之一的ASML公司开发。

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类型洞察

铸造行业市场份额最大,预计在预测期内将以 17.19% 的复合年增长率增长。

由于包括三星、台积电(TSMC)等在内的多家代工厂采用极紫外(EUV)光刻技术进行芯片制造和晶圆加工,该技术的应用范围正在不断扩大。台积电计划在2022年底前开始大规模生产3纳米产品,并以此主导国际代工市场。三星电子计划在2030年凭借其紫外(EUV)光刻技术超越台积电。该公司计划于2024年开始生产采用2纳米工艺的产品。为了满足日益增长的市场需求,台积电与索尼半导体解决方案有限公司(SSS)合作,在日本熊本成立了一家名为日本先进半导体制造有限公司(JASM)的子公司,专门提供22/28纳米工艺的代工服务。

集成器件制造商(IDM)是一家生产、设计和销售集成电路(IC)的半导体企业。传统的IDM拥有自己的本地品牌芯片,自主设计IC,并拥有生产制造工厂。然而,市场的发展可归因于IDM公司不断加大研发投入,以改进研发活动,并开发技术先进的半导体IC、传感器、RFID电路和片上系统。为了提高IC产能,这些企业经常与半导体制造设备供应商合作。业内企业高度重视改进其IC制造设施。因此,预计市场对半导体制造设备的需求将会增加。

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区域洞察

台湾是最大的收入贡献者,预计在预测期内将以18.44%的复合年增长率增长。台湾在国际市场上具有优势。由于台积电在台湾的扩张以及对极紫外(EUV)光刻技术投资的增加等因素,台湾的极紫外光刻市场正在扩张。台湾在亚太地区的极紫外光刻收入份额最大。台湾也在对极紫外光刻技术进行大量投资。

例如,美光科技于2021年9月决定安装ASML最新的光刻设备NXE:3600D。此外,美光科技还将在其台湾DRAM制造工厂部署同样的EUV光刻设备。台湾将成为美光科技首个EUV DRAM生产线所在地,该公司计划在未来几年内加大在台湾的投资。

韩国市场趋势

预计韩国在预测期内将以16.98%的复合年增长率增长。随着半导体几何尺寸的不断缩小,韩国已意识到采用极紫外光刻技术的重要性。该技术为人工智能、5G和汽车等下一代应用提供了理想且高效的解决方案,能够缩小晶圆上复杂图案的尺寸。2021年11月,荷兰芯片制造设备制造商ASML控股公司与韩国签署了一份合同,计划到2024年投资2400亿韩元(约合2.02亿美元)在韩国建立一个光刻产业集群。许多韩国半导体公司已从ASML获得了深紫外和极紫外光刻系统。

由于美国持续的技术进步,该国已成为极紫外光刻系统的重要市场。随着人工智能 (AI)、5G 连接、增强现实以及其他众多系统的需求不断增长,微芯片的需求也在持续增加。这为美国极紫外光刻市场的参与者创造了巨大的机遇。随着美国对自动驾驶汽车的需求不断增长,制造商希望为使用 5G 等最新技术的客户提供相应的工艺或解决方案。

荷兰、中国、德国和日本等国家都位于这些其他区域。ASML 的新培训中心将惠及全球市场。尽管该公司是欧洲半导体设备领域的领军企业,但其最大的客户却是台湾最知名的制造商。据《亚洲日经评论》报道,台积电在 2021 年接收了 ASML 出货的 35 套 EUV 系统中的 20 套。这家荷兰公司正通过向这家芯片制造商的员工介绍其设备,为未来的销售奠定基础。到 2023 年,ASML 预计将有超过 500 名员工在台湾工作,这得益于其在台湾开设的新研发中心。在中美贸易紧张局势下,中国半导体制造商利用芯片制造设备快速生产国产产品。这种情况推高了日本二手市场上各种设备的价格。日本的二手设备经销商声称,仅一年时间,价格就上涨了 20%。美国对中国的制裁不适用于老旧设备,这使得中国企业可以畅通无阻地使用这些设备。因此,在未来几年,中国和日本的极紫外光刻市场将为利益相关者创造关键机遇。

台湾 极紫外光刻市场 Revenue Share 2025

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主要和新兴参与者名单 极紫外光刻市场

ASML Holding NV
NTT Advanced Technology Corporation
Intel Corporation
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
Samsung Electronics Co. Ltd
Toppan Photomasks Inc.
Ushio Inc.

行业主要发展动态

2026年6月:ASML通过推进下一代极紫外光刻(EUV)系统(包括高数值孔径EUV平台)的研发,扩展了其极紫外光刻技术路线图,以支持先进的半导体制造工艺。该公司专注于提升芯片制造能力,以满足人工智能、高性能计算和先进逻辑应用的需求。
2026年5月:英特尔扩大了其先进半导体制造计划,加大了对下一代光刻技术(包括 EUV 系统)的采用力度,以支持先进的工艺节点并提高芯片制造能力。
2026年4月:台积电通过推进EUV光刻技术在先进工艺节点上的集成,扩展了其半导体制造能力。该公司致力于提高生产效率,并满足人工智能、高性能计算和高性能半导体应用领域的需求。
2026年1月:ASML加强了与半导体制造商和研究伙伴的合作,以加速高数值孔径极紫外光刻系统的开发和部署。这些举措旨在实现更小的晶体管设计和下一代芯片架构。

报告范围

细分

按产品类型 3
  • 光源
  • 镜子
  • 面具
按类型 按类型 2
  • 铸造厂
  • 集成器件制造商(IDMS)

覆盖地区

北美 2
  • 我们。
  • 加拿大
欧洲 9
  • 英国。
  • 德国
  • 法国
  • 西班牙
  • 意大利
  • 俄罗斯
  • 北欧的
  • 比荷卢经济联盟
  • 欧洲其他地区
亚太地区 8
  • 中国
  • 韩国
  • 日本
  • 印度
  • 澳大利亚
  • 台湾
  • 东南亚
  • 亚太其他地区
中东和非洲 7
  • 阿联酋
  • 火鸡
  • 沙特阿拉伯
  • 南非
  • 埃及
  • 尼日利亚
  • 中东和非洲其他地区
拉丁美洲 6
  • 巴西
  • 墨西哥
  • 阿根廷
  • 智利
  • 哥伦比亚
  • 拉丁美洲其他地区
竞争分析范围 ASML Holding NV · NTT Advanced Technology Corporation · Intel Corporation · Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited · Samsung Electronics Co. Ltd
研究交付成果 收入预测、竞争格局、增长因素、环境与监管格局及趋势

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常见问题(FAQ)

2026 年极紫外光刻市场规模为 259.5 亿美元,预计到 2034 年将达到 546.6 亿美元,在 2026-2034 年预测期内的复合年增长率为 9.76%。

到2025年,台湾将以31.5%的市场份额占据主导地位。

该市场的主要公司有:ASML Holding NV、NTT Advanced Technology Corporation、Intel Corporation、台湾积体电路制造股份有限公司、三星电子有限公司。

预计2026年至2034年预测期内,极紫外光刻市场将以9.76%的复合年增长率增长。
关于作者
Tejas Zamde
Tejas Zamde
Research Analyst

Tejas Zamde是一位市場研究專家,在科技、半導體、電子和汽車行業擁有兩年以上的經驗。他擅長市場評估、競爭情報、產業分析、市場規模估算、需求分析和策略研究。

他的經驗涵蓋分析全球和區域市場的技術趨勢、市場動態、監管發展、供需模式、價值鍊和競爭格局。他曾協助客戶進行機會評估、客戶細分、競爭標竿分析和成長策略制定。

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