01 2025年全球半导体化学气相沉积设备市场规模为169.1亿美元,预计将从2026年的183.6亿美元增长到2034年的355.3亿美元,在2026年至2034年的预测期内,复合年增长率为8.6%。亚太地区在半导体化学气相沉积设备市场占据主导地位,2025年市场份额为47.2%。化学气相沉积(CVD)是一种真空沉积工艺,用于制备具有优异品质和功能的固体材料。它广泛应用于半导体领域,用于制造薄片材料。这些材料通常比其他材料更坚韧,且纯度更高。它们被广泛应用于涂层、电子和催化等各种领域。化学气相沉积 (CVD) 设备增长的主要驱动因素之一是半导体设备需求的增长。其他重要驱动因素包括半导体行业的增长、消费者对电子产品的需求、半导体设备投资的增加、CVD 设备的研发以及针对六价铬 (Cr6) 的环境法规的日益严格。此外,在上述预测期内,化学气相沉积 (CVD) 设备市场还将受益于太阳能电池需求的增长、发展中国家终端用户行业的增加以及研发活动的推进。
2026年6月:应用材料公司推出了 Centris™ Spectral™ SiN ALD 沉积系统和 Producer™ Selectra™ Mo 刻蚀平台,以支持先进的 3D 逻辑和 NAND 闪存制造。这些新型沉积技术提高了薄膜均匀性,并助力下一代人工智能半导体的生产。
2026年6月:AIXTRON宣布,麻省理工学院林肯实验室投资购买了两套Hyperion 300毫米化学气相沉积(CVD)系统,以加速氮化镓(GaN)功率器件和二维半导体材料的研究与开发。这项投资将拓展先进半导体沉积研究能力。
2025年12月:ASM International 已完成对 Axus Technology 的收购,后者是一家为化合物半导体制造提供化学机械抛光 (CMP) 设备的供应商。此次收购拓展了 ASM 的工艺组合,使其与 ASM 领先的原子层沉积 (ALD) 和外延技术形成互补。