Informe de análisis del tamaño, la cuota de mercado y las tendencias del mercado de litografía ultravioleta extrema por tipo de producto (fuentes de luz, espejos, máscaras), por tipo (fundición, fabricantes de dispositivos integrados (IDMS)) y por región (América del Norte, Europa, Asia-Pacífico, Oriente Medio y África, Latinoamérica). Previsiones para el período 2026-2034.

Tamaño del mercado de litografía ultravioleta extrema

El mercado global de litografía ultravioleta extrema alcanzó un valor de 23.640 millones de dólares en 2025 y se prevé que crezca de 25.950 millones de dólares en 2026 a 54.660 millones de dólares en 2034, registrando una tasa de crecimiento anual compuesta (CAGR) del 9,76% durante el período de previsión de 2026 a 2034. Taiwán dominó el mercado de litografía ultravioleta extrema con una cuota de mercado del 31,5% en 2025.

Una de las técnicas de litografía de próxima generación (NGL) más avanzadas, utilizada para imprimir líneas de tan solo 30 nm de grosor y crear microprocesadores y microchips, es la litografía ultravioleta extrema (EUVL). Este método podría sustituir a la litografía óptica, que actualmente se utiliza para diseñar microcircuitos. El sistema EUVL graba en la oblea haces de luz ultravioleta sólida que se reflejan en ella.

Información sobre el producto

El segmento de máscaras es el que más contribuye al mercado y se espera que crezca a una tasa de crecimiento anual compuesta (CAGR) del 16,56 % durante el período de pronóstico. Una máscara típica es una placa o película opaca con regiones transparentes que permiten el paso de la luz siguiendo un patrón específico. Las máscaras se utilizan frecuentemente en el método de fotolitografía empleado para la producción de chips semiconductores. Están disponibles en varios tamaños y existen diversas variedades, incluidas las máscaras ópticas y las de litografía ultravioleta extrema (EUV). Se prevé que el crecimiento de las pantallas planas (FPD), debido al mayor uso de amplificadores operacionales y al auge de los sistemas automatizados en diversos sectores industriales, presente importantes oportunidades para el desarrollo de fotomáscaras.

A pesar de las dificultades que ha enfrentado en casi todos los ámbitos de la tecnología EUVL desde sus inicios, esta se ha consolidado como uno de los métodos de litografía de próxima generación más prometedores. Actualmente, existen herramientas comerciales de preproducción de escaneo por pasos que ya están instaladas y en pleno funcionamiento. En la litografía EUV se utiliza luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros, más de 14 veces menor que la luz DUV. Gracias a esta longitud de onda extremadamente corta, es posible emplear una apertura numérica reducida y evitar el problema del autoviñeteo en ópticas totalmente reflectantes. La tecnología para crear fuentes de luz EUV mediante la técnica de plasma generado por láser (LPP) ha sido desarrollada por ASML, uno de los principales proveedores de sistemas EUV.

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Información sobre tipos

El segmento de fundición posee la mayor cuota de mercado y se espera que crezca a una tasa de crecimiento anual compuesta (CAGR) del 17,19% durante el período previsto.

La litografía ultravioleta extrema (EUV) está experimentando un gran crecimiento debido a la adopción de esta tecnología para la fabricación de chips y obleas por parte de diversas fundiciones, entre ellas Samsung, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) y otras. Al iniciar la producción en alto volumen de productos de 3 nm a finales de 2022, TSMC Taiwán pretende dominar el mercado internacional de fundiciones. Samsung Electronics Co. Ltd. planea superar a TSMC en 2030 utilizando su tecnología de litografía ultravioleta (EUV). En 2024, la compañía planea comenzar a producir artículos utilizando un proceso de 2 nm. Para satisfacer la creciente demanda, TSMC y Sony Semiconductor Solutions Co. Ltd (SSS) también se asociaron para crear una filial en Kumamoto, Japón, llamada Japan Advanced Semiconductor Manufacturing Co. Ltd (JASM), que ofrecerá servicios de fundición para el proceso de 22/28 nanómetros.

Un fabricante de dispositivos integrados (IDM) es una empresa de semiconductores que produce, diseña y vende circuitos integrados (CI). Un IDM tradicional posee chips de marca propia, diseña sus CI internamente y cuenta con una planta de fabricación para producirlos. Sin embargo, el avance del mercado se atribuye a las crecientes inversiones que realizan las empresas IDM para mejorar sus actividades de investigación y desarrollo (I+D) y crear CI, sensores, circuitos RFID y sistemas en chip tecnológicamente avanzados. Para aumentar su capacidad de producción de CI, estas empresas colaboran frecuentemente con proveedores de equipos para la fabricación de semiconductores. Los participantes del sector hacen especial hincapié en la mejora de sus instalaciones de fabricación de CI. Debido a esta situación, se prevé un aumento en la demanda de maquinaria para la fabricación de semiconductores.

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Perspectivas regionales

Taiwán es el principal contribuyente a los ingresos y se espera que crezca a una tasa de crecimiento anual compuesta (TCAC) del 18,44 % durante el período de pronóstico. Taiwán cuenta con una ventaja en el mercado internacional. El mercado de litografía ultravioleta extrema (EUV) en Taiwán se está expandiendo debido a factores como la expansión de TSMC en Taiwán y el aumento de las inversiones en tecnología de litografía EUV. Este país posee la mayor cuota de ingresos en litografía EUV en la región de Asia-Pacífico. Taiwán también está realizando importantes inversiones en tecnología de litografía EUV.

Por ejemplo, Micron Technology decidió instalar el NXE:3600D, el equipo de litografía más reciente de ASML, en septiembre de 2021. Además, Micron Technology instalará la misma maquinaria de litografía EUV en su planta de fabricación de DRAM en Taiwán. Taiwán será la sede de la primera producción de DRAM EUV de Micron Technology, y la compañía planea aumentar su inversión allí en los próximos años.

Tendencias del mercado en Corea del Sur

Se prevé que Corea del Sur crezca a una tasa de crecimiento anual compuesta (TCAC) del 16,98 % durante el período de pronóstico. Corea del Sur ha comprendido la importancia de adoptar la tecnología de litografía EUV, dado que las geometrías de los semiconductores tienden a reducirse. Esta tecnología ofrece una opción ideal y eficaz para aplicaciones de próxima generación, como IA, 5G y automoción, permitiendo la miniaturización de patrones complejos en las obleas. En noviembre de 2021, ASML Holding, un fabricante neerlandés de maquinaria para la fabricación de chips, firmó un contrato para establecer un clúster de litografía en Corea del Sur con una inversión de 240 mil millones de coronas suecas (202 millones de dólares) para 2024. Muchas empresas surcoreanas de semiconductores han recibido sistemas de litografía ultravioleta profunda y ultravioleta extrema de ASML.

Estados Unidos representa un mercado importante para los sistemas de litografía EUV debido a sus constantes avances tecnológicos. La demanda de microchips está en aumento, junto con las necesidades de inteligencia artificial (IA), conectividad 5G, realidad aumentada y muchos otros sistemas. Esto genera importantes oportunidades para los actores del mercado estadounidense de litografía EUV. Los fabricantes buscan ofrecer procedimientos y soluciones a clientes que utilizan las tecnologías más recientes, como el 5G, ante el creciente aumento de la demanda de vehículos autónomos en EE. UU.

Países como los Países Bajos, China, Alemania y Japón se encuentran en estas otras regiones. El mercado mundial se beneficiará del nuevo centro de capacitación de ASML. Aunque la empresa es el nombre más importante en maquinaria de semiconductores europea, su mayor cliente es el fabricante taiwanés más conocido. Según Asian Nikkei Review, TSMC recibió 20 de los 35 sistemas EUV que ASML envió en 2021. La empresa holandesa está sentando las bases para futuras ventas al presentar sus herramientas al personal del fabricante de chips. Para 2023, ASML espera que más de 500 empleados trabajen localmente, gracias a la apertura de un nuevo centro de I+D en Taiwán. En medio de las tensiones comerciales con Estados Unidos, los fabricantes chinos de semiconductores utilizan máquinas de fabricación de chips para producir rápidamente bienes nacionales. Esta situación está elevando el costo de varios equipos en el mercado secundario en Japón. Los distribuidores de equipos usados ​​en Japón afirman que en solo un año, los precios han aumentado un 20%. Las sanciones estadounidenses contra China no se aplican a las máquinas más antiguas, lo que permite a los fabricantes chinos un acceso total. Como resultado, en los próximos años, el mercado de la litografía ultravioleta extrema en China y Japón generará oportunidades cruciales para las partes interesadas.

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Lista de actores clave y emergentes en Mercado de litografía ultravioleta extrema