湿式処理装置市場の規模、シェア、トレンド分析レポート：装置タイプ別（洗浄装置、エッチング装置、薬品供給システム、ウェットベンチ、リンス＆ドライ装置、その他）、ウェーハサイズ別（200 mm、300 mm、450 mm）、用途別（ウェーハ洗浄、化学機械研磨（CMP）洗浄、湿式エッチング、フォトレジスト剥離、表面処理）、エンドユーザー別（統合デバイスメーカー（IDM）、半導体ファウンドリ、半導体組立・テストアウトソーシング（OSAT）プロバイダー、研究機関）、地域別（北米、欧州、アジア太平洋、中東・アフリカ、ラテンアメリカ）予測、2026～2034年

最終更新: August 24, 2026 | 著者: Tejas Zamde | 形式:

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市場セグメンテーション

湿式処理装置市場, 機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)

清掃用具
エッチング装置
化学物質送達システム
濡れたベンチ
機器の洗浄と乾燥
その他

湿式処理装置市場, ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)

200 mm
300 mm
450 mm

湿式処理装置市場, 応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)

ウェーハ洗浄
化学機械研磨（CMP）洗浄
湿式エッチング
フォトレジスト剥離
表面処理

湿式処理装置市場, エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)

統合デバイスメーカー（IDM）
半導体ファウンドリ
半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
研究機関

地域別湿式処理装置市場

北米
1. 北米湿式処理装置市場機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
2. 北米湿式処理装置市場ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 200 mm
  2. 300 mm
  3. 450 mm
3. 北米湿式処理装置市場応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. ウェーハ洗浄
  2. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  3. 湿式エッチング
  4. フォトレジスト剥離
  5. 表面処理
4. 北米湿式処理装置市場エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 統合デバイスメーカー（IDM）
  2. 半導体ファウンドリ
  3. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  4. 研究機関
5. 私たち。
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
6. カナダ
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
ヨーロッパヨーロッパ
1. ヨーロッパヨーロッパ湿式処理装置市場機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
2. ヨーロッパヨーロッパ湿式処理装置市場ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 200 mm
  2. 300 mm
  3. 450 mm
3. ヨーロッパヨーロッパ湿式処理装置市場応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. ウェーハ洗浄
  2. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  3. 湿式エッチング
  4. フォトレジスト剥離
  5. 表面処理
4. ヨーロッパヨーロッパ湿式処理装置市場エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 統合デバイスメーカー（IDM）
  2. 半導体ファウンドリ
  3. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  4. 研究機関
5. イギリス
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
6. ドイツ
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
7. フランス
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
8. スペイン
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
9. イタリア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
10. ロシア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
11. ノルディック
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
12. ベネルクス
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
13. その他のヨーロッパ諸国
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
アジア太平洋地域
1. アジア太平洋地域湿式処理装置市場機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
2. アジア太平洋地域湿式処理装置市場ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 200 mm
  2. 300 mm
  3. 450 mm
3. アジア太平洋地域湿式処理装置市場応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. ウェーハ洗浄
  2. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  3. 湿式エッチング
  4. フォトレジスト剥離
  5. 表面処理
4. アジア太平洋地域湿式処理装置市場エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 統合デバイスメーカー（IDM）
  2. 半導体ファウンドリ
  3. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  4. 研究機関
5. 中国
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
6. 韓国
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
7. 日本
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
8. インド
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
9. オーストラリア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
10. 台湾
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
11. 東南アジア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
12. アジア太平洋地域のその他
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
中東・アフリカ
1. 中東・アフリカ湿式処理装置市場機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
2. 中東・アフリカ湿式処理装置市場ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 200 mm
  2. 300 mm
  3. 450 mm
3. 中東・アフリカ湿式処理装置市場応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. ウェーハ洗浄
  2. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  3. 湿式エッチング
  4. フォトレジスト剥離
  5. 表面処理
4. 中東・アフリカ湿式処理装置市場エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 統合デバイスメーカー（IDM）
  2. 半導体ファウンドリ
  3. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  4. 研究機関
5. アラブ首長国連邦
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
6. 七面鳥
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
7. サウジアラビア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
8. 南アフリカ
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
9. エジプト
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
10. ナイジェリア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
11. 中東・アフリカ諸国のその他
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
ラテンアメリカ
1. ラテンアメリカ湿式処理装置市場機器の種類別機器の種類別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
2. ラテンアメリカ湿式処理装置市場ウェハーサイズ別 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 200 mm
  2. 300 mm
  3. 450 mm
3. ラテンアメリカ湿式処理装置市場応募制 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. ウェーハ洗浄
  2. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  3. 湿式エッチング
  4. フォトレジスト剥離
  5. 表面処理
4. ラテンアメリカ湿式処理装置市場エンドユーザー向け 2022-2034 (USD MILLION/ Units)
  1. 統合デバイスメーカー（IDM）
  2. 半導体ファウンドリ
  3. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  4. 研究機関
5. ブラジル
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
6. メキシコ
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
7. アルゼンチン
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
8. チリ
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
9. コロンビア
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関
10. その他のラテンアメリカ諸国
  1. 清掃用具
  2. エッチング装置
  3. 化学物質送達システム
  4. 濡れたベンチ
  5. 機器の洗浄と乾燥
  6. その他
  7. 200 mm
  8. 300 mm
  9. 450 mm
  10. ウェーハ洗浄
  11. 化学機械研磨（CMP）洗浄
  12. 湿式エッチング
  13. フォトレジスト剥離
  14. 表面処理
  15. 統合デバイスメーカー（IDM）
  16. 半導体ファウンドリ
  17. 半導体組立・テスト（OSAT）アウトソーシングプロバイダー
  18. 研究機関