극자외선 리소그래피 시장 규모, 점유율 및 동향 분석 보고서: 제품 유형별(광원, 미러, 마스크), 업체 유형별(파운드리, 통합 디바이스 제조업체(IDMS)), 지역별(북미, 유럽, 아시아 태평양, 중동 및 아프리카, 라틴 아메리카) 예측, 2026-2034년

극자외선 리소그래피 시장 규모

세계 극자외선 리소그래피 시장 규모는 2025년 236억 4천만 달러였으며, 2026년 259억 5천만 달러에서 2034년 546억 6천만 달러로 성장할 것으로 예상되며, 2026년부터 2034년까지 연평균 성장률(CAGR)은 9.76%를 기록할 것으로 전망됩니다. 대만은 2025년 31.5%의 시장 점유율로 극자외선 리소그래피 시장을 주도했습니다.

30나노미터만큼 얇은 선을 인쇄하고 마이크로프로세서와 마이크로칩을 제작하는 데 사용되는 차세대 리소그래피(NGL) 기술 중 하나는 극자외선 리소그래피(EUVL)입니다. 이 기술은 현재 마이크로회로 설계에 사용되는 광학 리소그래피를 대체할 가능성이 있습니다. EUVL 시스템은 실리콘 웨이퍼에서 반사된 자외선 고체 광선을 웨이퍼에 새겨 넣습니다.

제품 인사이트

마스크 부문은 시장에서 가장 큰 비중을 차지하며 예측 기간 동안 연평균 16.56%의 성장률을 보일 것으로 예상됩니다. 마스크는 특정 패턴으로 빛이 통과하는 투명한 부분이 있는 불투명한 판이나 필름입니다. 마스크는 반도체 칩 생산에 사용되는 포토리소그래피 공정에 자주 사용됩니다. 마스크는 다양한 크기로 제공되며, 광학 마스크와 EUV 마스크를 포함하여 여러 종류가 있습니다. 연산 증폭기 사용 증가와 다양한 산업 분야에서 자동화 시스템의 급증으로 인한 평면 디스플레이(FPD)의 성장은 포토마스크 개발에 상당한 기회를 제공할 것으로 예상됩니다.

EUVL 기술은 초기부터 거의 모든 분야에서 어려움에 직면해 왔음에도 불구하고, 차세대 리소그래피 기술 중 가장 유망한 기술 중 하나로 자리매김했습니다. 상용 스텝앤스캔 방식의 사전 제작 장비들이 현재 현장에 설치되어 완벽하게 가동되고 있습니다. EUV 리소그래피에서는 13.5나노미터의 파장을 가진 빛을 사용하는데, 이는 심자외선(DUV) 광보다 14배 이상 짧습니다. 이처럼 파장이 매우 짧기 때문에 작은 개구수를 사용할 수 있고, 모든 반사형 광학계에서 발생하는 자체 비네팅 문제를 피할 수 있습니다. 레이저 생성 플라즈마(LPP) 기술을 이용한 EUV 광원 제작 기술은 EUV 시스템 분야의 선두 공급업체 중 하나인 ASML에서 개발했습니다.

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유형별 인사이트

주조 부문이 가장 큰 시장 점유율을 차지하고 있으며, 예측 기간 동안 연평균 17.19%의 성장률을 보일 것으로 예상됩니다.

극자외선(EUV) 리소그래피 기술은 삼성, TSMC(대만 반도체 제조 회사) 등 여러 파운드리 업체들이 칩 제조 및 웨이퍼 생산에 도입하면서 시장이 확대되고 있습니다. TSMC는 2022년 말까지 3나노미터 제품의 대량 생산을 시작하여 국제 파운드리 시장을 선도하겠다는 목표를 세웠습니다. 삼성전자는 EUV 리소그래피 기술을 활용해 2030년에는 TSMC를 제치고 시장 점유율 1위를 달성하겠다는 계획입니다. 삼성전자는 2024년부터 2나노미터 공정을 적용한 제품 생산을 시작할 예정입니다. 이러한 수요 증가에 대응하기 위해 TSMC는 소니 반도체 솔루션(SSS)과 협력하여 일본 구마모토에 JASM(Japan Advanced Semiconductor Manufacturing Co. Ltd)이라는 자회사를 설립하고 22/28나노미터 공정 파운드리 서비스를 제공하고 있습니다.

집적회로(IC)를 생산, 설계 및 판매하는 반도체 기업을 IDM(Integrated Device Manufacturer)이라고 합니다. 전통적인 IDM은 자체 브랜드 칩을 보유하고, IC를 자체적으로 설계하며, 생산 시설을 갖추고 있습니다. 그러나 시장의 성장은 IDM 기업들이 연구 개발(R&D) 활동을 강화하고 기술적으로 진보된 반도체 IC, 센서, RFID 회로 및 시스템 온 칩(SoC)을 개발하기 위한 투자를 늘리고 있는 데 기인합니다. 이러한 기업들은 IC 생산 능력을 확대하기 위해 반도체 제조 장비 공급업체와 협력하는 경우가 많습니다. 업계 참여자들은 IC 제조 시설 개선에 큰 비중을 두고 있습니다. 이러한 상황으로 인해 반도체 제조 장비에 대한 시장 수요는 증가할 것으로 예상됩니다.

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지역별 분석

대만은 가장 중요한 매출 기여국이며 예측 기간 동안 연평균 18.44%의 성장률을 보일 것으로 예상됩니다. 대만은 국제 시장에서 유리한 위치를 차지하고 있습니다. 대만의 극자외선(EUV) 리소그래피 시장은 TSMC의 대만 진출과 EUV 리소그래피 기술에 대한 투자 증가 등의 요인으로 인해 확대되고 있습니다. 대만은 아시아 태평양 지역에서 EUV 리소그래피 매출 점유율이 가장 높습니다. 또한 대만은 EUV 리소그래피 기술에 상당한 투자를 하고 있습니다.

예를 들어, 마이크론 테크놀로지는 2021년 9월 ASML의 최신 리소그래피 장비인 NXE:3600D를 설치하기로 결정했습니다. 또한, 마이크론 테크놀로지는 대만 DRAM 생산 시설에도 동일한 EUV 리소그래피 장비를 설치할 예정입니다. 대만은 마이크론 테크놀로지의 첫 EUV DRAM 생산 기지가 될 것이며, 회사는 향후 몇 년 동안 이곳에 대한 투자를 확대할 계획입니다.

한국 시장 동향

한국은 예측 기간 동안 연평균 16.98%의 성장률을 기록할 것으로 예상됩니다. 한국은 반도체 소자의 크기가 점점 작아지는 추세에 발맞춰 EUV 리소그래피 기술 도입의 중요성을 인식하고 있습니다. EUV 리소그래피는 AI, 5G, 자동차 등 차세대 애플리케이션에 이상적이고 효과적인 솔루션을 제공하며, 웨이퍼 상에 복잡한 패턴을 소형화할 수 있도록 지원합니다. 네덜란드 반도체 제조업체 ASML 홀딩스는 2021년 11월, 한국에 2,400억 원(미화 2억 200만 달러)을 투자하여 2024년까지 리소그래피 클러스터를 구축하는 계약을 체결했습니다. 이미 많은 한국 반도체 기업들이 ASML로부터 심자외선(EUV) 및 극자외선(EUV) 리소그래피 시스템을 도입했습니다.

미국은 지속적인 기술 발전으로 인해 EUV 리소그래피 시스템의 중요한 시장입니다. 마이크로칩 수요는 물론 인공지능(AI), 5G 연결, 증강 현실 및 기타 여러 시스템에 대한 요구 사항이 증가하고 있습니다. 이는 미국 EUV 리소그래피 시장 참여자들에게 상당한 기회를 창출합니다. 제조업체들은 미국 내 자율주행차 수요 증가에 발맞춰 5G와 같은 최신 기술을 사용하는 고객에게 적합한 공정 또는 솔루션을 제공하고자 합니다.

네덜란드, 중국, 독일, 일본과 같은 국가들이 이러한 다른 지역에 속해 있습니다. ASML의 새로운 교육 시설은 세계 시장에 긍정적인 영향을 미칠 것입니다. ASML은 유럽 반도체 장비 분야에서 가장 큰 기업이지만, 최대 고객은 대만의 유명 제조업체입니다. 아시안 닛케이 리뷰에 따르면, ASML이 2021년에 출하한 EUV 시스템 35대 중 20대가 TSMC에 공급되었습니다. ASML은 TSMC 직원들에게 자사 장비를 교육함으로써 향후 판매를 위한 기반을 다지고 있습니다. ASML은 대만에 새로운 R&D 시설을 개설하여 2023년까지 현지 직원을 500명 이상 고용할 계획입니다. 미국과의 무역 긴장 속에서 중국 반도체 제조업체들은 자국산 제품을 신속하게 생산하기 위해 반도체 제조 장비를 활용하고 있습니다. 이러한 상황은 일본 중고 시장에서 각종 장비 가격 상승을 부추기고 있습니다. 일본의 중고 장비 판매업자들은 불과 1년 만에 가격이 20% 상승했다고 주장합니다. 미국의 대중국 제재는 구형 장비에는 적용되지 않아 중국 업체들이 시장에 자유롭게 진출할 수 있습니다. 결과적으로 향후 몇 년 동안 중국과 일본의 극자외선 리소그래피 시장은 이해관계자들에게 중요한 기회를 창출할 것입니다.

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