01 Der globale Markt für Mikrowellen-Wafer-Bearbeitungsanlagen (MWS) hatte 2025 ein Volumen von 141,56 Millionen US-Dollar und soll von 159,40 Millionen US-Dollar im Jahr 2026 auf 411,89 Millionen US-Dollar im Jahr 2034 anwachsen, was einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 12,6 % im Prognosezeitraum von 2026 bis 2034 entspricht. Der asiatisch-pazifische Raum dominierte den Markt für MWS-Wafer-Bearbeitungsanlagen mit einem Marktanteil von 48,2 % im Jahr 2025.MWS-Maschinen (Mehrdrahtsägen) sind hochentwickelte Schneidwerkzeuge zum Schneiden von Siliziumkarbid-Wafern (SiC), einem Schlüsselmaterial für Hochleistungs- und Hochfrequenzelektronik. Diese Maschinen verwenden zahlreiche dünne, mit Schleifmittel beschichtete Drähte, um das harte und spröde SiC-Material präzise zu durchtrennen. Dadurch wird minimaler Materialverlust und eine hohe Oberflächengüte gewährleistet. Der Prozess besteht darin, den Draht durch ein Bad mit Schleifmittelpartikeln zu ziehen, die das Material während des Vorgangs abtragen.MWS-Maschinen werden aufgrund ihrer Fähigkeit, dünne, gleichmäßige Wafer mit geringerem Schnittverlust (Materialverlust beim Schneiden) im Vergleich zu herkömmlichen Sägeverfahren herzustellen, bevorzugt. Ihre hohe Präzision und Effizienz machen sie unverzichtbar für die Produktion von SiC-Wafern, die aufgrund ihrer überlegenen Wärmeleitfähigkeit, hohen elektrischen Feldstärke und hohen Temperaturbeständigkeit zunehmend für Anwendungen in der Leistungselektronik, Elektrofahrzeugen und Systemen für erneuerbare Energien nachgefragt werden.
September 2025 JSEDM präsentierte seine Diamantdrahtsägemaschine auf der SEMICON Taiwan 2025 und demonstrierte damit die hochpräzisen Schneidfähigkeiten für polykristallines SiC und andere fortschrittliche spröde Werkstoffe.
August 2025 XKH bietet fortschrittliche Technologien für großformatige SiC-Slicing-Anlagen zur Bearbeitung von 8-Zoll-Wafern und unterstützt die hochpräzise Substratherstellung für Leistungshalbleiteranwendungen.
August 2025 Chinesische Geräteentwickler haben die Prototypenentwicklung von großformatigen Laserschneidanlagen für 4-Zoll- und 6-Zoll-SiC-Materialien vorangetrieben und gleichzeitig die Gerätetechnologien in Richtung 8-Zoll-Wafer-Herstellung weiterentwickelt.