Marktbericht für Fotolithografieanlagen: Größe, Marktanteil und Trendanalyse nach Verfahren (Ultraviolett, Tiefes Ultraviolett, Extremes Ultraviolett), Anwendung (Frontend, Backend), Lichtquelle (Quecksilberdampflampe, Fluorlaser, Excimerlaser, Sonstige), Typ (EUV, DUV, I-Linie, ArF, ArFi, KrF), Wellenlänge (370 nm – 270 nm, 270 nm – 170 nm, 70 nm – 1 nm), Endnutzer (IDMS, Foundries) und Region (Nordamerika, Europa, Asien-Pazifik, Naher Osten und Afrika, Lateinamerika). Prognosen für 2026–2034.