01 Rápida adopción de la unión híbrida y de paso fino El mercado se está orientando hacia soluciones avanzadas de alto margen, como la unión híbrida y de paso fino, en lugar de los métodos clásicos de conexión de cables y chips. Esta tendencia se debe a la demanda de arquitecturas de memoria apilada y chiplets en la computación de alto rendimiento, como la memoria de alto ancho de banda (HBM) y la lógica para inteligencia artificial. Por ejemplo, en junio de 2025, BE Semiconductor Industries (Besi) informó de un aumento en las reservas de herramientas de unión híbrida para aplicaciones lógicas y de HBM, que vincularon explícitamente con la demanda de IA y centros de datos, y con los requisitos de apilamiento de chips. Este cambio incrementa el costo unitario de los equipos de unión. Eleva el valor de los servicios avanzados de unión, ya que los principales proveedores de servicios de ensamblaje y prueba de semiconductores (OSAT), como ASE y Amkor, están invirtiendo fuertemente en nueva capacidad para satisfacer esta demanda.
Mayo de 2026:Imec y EV Group demostraron la unión híbrida oblea a oblea con un paso de interconexión de cobre de 200 nm y una precisión de alineación posterior a la unión sin precedentes. Esta colaboración respalda la integración avanzada de semiconductores 3D, tanto de lógica a lógica como de memoria a lógica.
Mayo de 2026:ASMPT destacó su solución de unión de chips a obleas LITHOBOLT y las plataformas de unión por termocompresión FIREBIRD para aceleradores de IA, HBM y arquitecturas de chiplets. Estos sistemas admiten la integración de semiconductores de paso ultrafino y alta densidad.
Septiembre de 2025:EV Group logró un avance significativo en el control de superposición de enlaces híbridos utilizando su sistema de metrología EVG40 D2W. Esta tecnología permite la medición de superposición de chips de alto rendimiento para mejorar el control de procesos y la productividad en la integración avanzada de chiplets y 3D.