01 El mercado mundial de equipos de grabado de semiconductores alcanzó un valor de 24.350 millones de dólares en 2025 y se prevé que crezca de 26.180 millones de dólares en 2026 a 46.760 millones de dólares en 2034, registrando una tasa de crecimiento anual compuesta (CAGR) del 7,52% durante el período de previsión de 2026 a 2034. La región de Asia-Pacífico dominó el mercado de equipos de grabado de semiconductores con una cuota de mercado del 50,8% en 2025.El equipo de grabado de semiconductores es una herramienta que se utiliza para eliminar materiales específicos de la superficie de un sustrato de oblea de silicio mediante grabado húmedo o seco. La técnica de grabado húmedo emplea un producto químico para eliminar selectivamente el material del sustrato de la oblea de silicio. Históricamente, los procedimientos químicos húmedos han sido esenciales para el grabado de patrones. Además, las técnicas de grabado seco reemplazaron al grabado químico húmedo a medida que el tamaño de los componentes del sistema se redujo y la importancia de las topografías de interfaz aumentó. La naturaleza isotrópica del grabado húmedo fue la principal causa de este cambio.El tamaño de las estructuras varía debido a que el grabado húmedo elimina material en todas las dimensiones. El grabado seco se puede utilizar para eliminar material mediante métodos físicos, como el impacto de iones seguido de la expulsión del material de la superficie, o mediante procesos químicos que convierten la superficie en especies gaseosas reactivas que se pueden eliminar mediante soplado. Toda técnica de grabado seco se realiza al vacío, donde la presión influye en el proceso de grabado. La superficie del semiconductor se graba para eliminar material y producir patrones según las aplicaciones. Se emplea en la fabricación de dispositivos semiconductores.
Junio de 2026:Lam Research presentó la plataforma de grabado de conductores Akara®, diseñada para la fabricación avanzada de semiconductores de lógica y memoria, que mejora la precisión, la productividad y el control de procesos para la fabricación de chips de próxima generación.
Mayo de 2026:Tokyo Electron (TEL) amplió su planta de fabricación en Miyagi, Japón, para aumentar la capacidad de producción de equipos de grabado y deposición de semiconductores, respondiendo así a la creciente demanda mundial de herramientas avanzadas para la fabricación de semiconductores.
Septiembre de 2025:Applied Materials ha introducido nuevas tecnologías avanzadas de modelado y grabado por plasma para respaldar la producción de transistores Gate-All-Around (GAA) y la fabricación de memorias de alto ancho de banda (HBM) para aplicaciones de semiconductores de IA.
Junio de 2025:Tokyo Electron (TEL) ha lanzado su sistema de grabado por plasma de última generación para dispositivos semiconductores 3D avanzados, mejorando la precisión del grabado, la productividad y la uniformidad del proceso para la fabricación de chips de vanguardia.