01 El mercado mundial de equipos de litografía de semiconductores alcanzó un valor de 28.750 millones de dólares en 2025 y se prevé que crezca de 31.550 millones de dólares en 2026 a 66.310 millones de dólares en 2034, registrando una tasa de crecimiento anual compuesta (CAGR) del 9,73% durante el período de previsión de 2026 a 2034. La región de Asia-Pacífico dominó el mercado de equipos de litografía de semiconductores con una cuota de mercado del 56,4% en 2025.Los circuitos eléctricos a escala nanométrica están presentes en muchos componentes y dispositivos eléctricos, como chips de memoria y microprocesadores, y se fabrican mediante tecnología de litografía de semiconductores. Los equipos de litografía de semiconductores son cruciales para la creación de nuevos productos tecnológicos que integran circuitos semiconductores. Los patrones de circuitos de alta complejidad, producidos en una fotomáscara de una placa de vidrio de tamaño considerable, se reducen mediante lentes de ultra alto rendimiento y se exponen sobre un sustrato de silicio, conocido como oblea, utilizando un sistema de litografía de semiconductores.
Mayo de 2026:ASML y Tata Electronics anunciaron una alianza estratégica para apoyar la construcción de la planta de fabricación de semiconductores de Tata Electronics en Dholera, India. En virtud de este acuerdo, ASML suministrará sus sistemas avanzados de litografía, brindará apoyo en la capacitación del personal y colaborará en el desarrollo de infraestructura de I+D centrada en la litografía para fortalecer el ecosistema de fabricación de semiconductores de la India.
Marzo de 2026:Nikon Corporation lanzó su sistema de litografía digital DSP-100, diseñado para respaldar la fabricación de semiconductores de próxima generación y el empaquetado avanzado de chips. El nuevo sistema amplía la cartera de litografía de Nikon al permitir la creación de patrones de mayor precisión para aplicaciones de IA, computación en la nube y semiconductores para centros de datos.
Marzo de 2025:imec y ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology firmaron un Acuerdo de Asociación Estratégica que extiende su colaboración hasta 2029. El acuerdo se centra en el avance de la litografía EUV de alta apertura numérica y la investigación de semiconductores sub-2 nm, con la contribución de ZEISS en óptica de litografía avanzada y el apoyo a proyectos de I+D en el marco de la línea piloto NanoIC de Europa.
Marzo de 2025:Canon Inc. amplió su cartera de productos de litografía de semiconductores al fortalecer su línea de equipos avanzados de litografía de empaquetado, incluyendo el sistema FPA-8000iW para sustratos de gran formato. Esta ampliación de la cartera busca mejorar el rendimiento de los chips y satisfacer la creciente demanda de tecnologías avanzadas de empaquetado de semiconductores.