01 전 세계 반도체 화학 기상 증착(CVD) 장비 시장 규모는 2025년 169억 1천만 달러였으며, 2026년 183억 6천만 달러에서 2034년 355억 3천만 달러로 성장할 것으로 예상되며, 2026년부터 2034년까지 연평균 성장률(CAGR)은 8.6%를 기록할 것으로 전망됩니다. 아시아 태평양 지역은 2025년 47.2%의 시장 점유율로 반도체 CVD 장비 시장을 주도했습니다.화학 기상 증착(CVD)은 진공 증착 공정으로, 우수한 품질과 기능을 지닌 고체 물질을 제조하는 데 사용됩니다. CVD는 반도체 분야에서 박막을 만드는 데 널리 활용됩니다. 이러한 물질은 일반적으로 다른 물질보다 강도가 높고 순도가 뛰어납니다. 코팅, 전자 제품, 촉매 등 다양한 분야에 폭넓게 사용됩니다.화학 기상 증착(CVD) 장비 시장 성장의 주요 동력 중 하나는 반도체 장비 수요 증가입니다. 그 외 중요한 성장 동력으로는 반도체 산업 성장, 전자제품에 대한 인구 수요 증가, 반도체 장비 투자 확대, CVD 장비 개발, 그리고 Cr6 관련 환경 규제 강화 등이 있습니다. 또한, 앞서 언급한 예측 기간 동안 태양 전지 수요 증가, 개발도상국의 최종 사용자 산업 수 증가, 그리고 연구 개발 활동 확대로 인해 CVD 장비 시장은 성장세를 보일 것으로 예상됩니다.
2026년 6월:Applied Materials는 첨단 3D 로직 및 NAND 제조를 지원하기 위해 Centris™ Spectral™ SiN ALD 증착 시스템과 Producer™ Selectra™ Mo 에칭 플랫폼을 출시했습니다. 새로운 증착 기술은 박막 균일성을 향상시키고 차세대 AI 반도체 생산을 가능하게 합니다.
2026년 6월:AIXTRON은 MIT 링컨 연구소가 질화갈륨(GaN) 전력 소자 및 2차원 반도체 소재 연구 개발을 가속화하기 위해 Hyperion 300mm CVD 시스템 두 대에 투자했다고 발표했습니다. 이번 투자를 통해 첨단 반도체 증착 연구 역량이 확대될 것입니다.
2025년 12월:ASM International은 화합물 반도체 제조용 화학 기계적 연마(CMP) 장비 공급업체인 Axus Technology 인수를 완료했습니다. 이번 인수를 통해 ASM은 자사의 선도적인 ALD 및 에피택시 기술을 보완하는 공정 포트폴리오를 확장하게 되었습니다.