01 2025年全球半导体光刻设备市场规模为287.5亿美元,预计将从2026年的315.5亿美元增长到2034年的663.1亿美元,在2026年至2034年的预测期内,复合年增长率为9.73%。亚太地区在半导体光刻设备市场占据主导地位,2025年的市场份额为56.4%。纳米级电路广泛存在于许多电子元件和设备中,例如存储芯片和计算机微处理器,它们采用半导体光刻技术进行图案化。半导体光刻设备在开发集成半导体电路的新技术产品时至关重要。在由大尺寸玻璃板制成的光掩模上生成的复杂电路图案,通过超高性能透镜进行缩小,然后利用半导体光刻系统曝光到称为晶圆的硅衬底上。
2026年5月:ASML和塔塔电子宣布建立战略合作伙伴关系,以支持塔塔电子在印度多莱拉建立半导体制造工厂。根据协议,ASML将提供其先进的光刻系统,支持员工培训,并合作开发以光刻技术为重点的研发基础设施,以加强印度的半导体制造生态系统。
2025年3月:imec 和蔡司半导体制造技术公司签署了一项战略合作伙伴关系协议,将双方的合作延长至 2029 年。该协议的重点是推进高数值孔径 EUV 光刻和 2 纳米以下半导体研究,蔡司将提供先进的光刻光学器件,并支持欧洲 NanoIC 试点项目下的研发项目。
2025年3月:佳能公司通过加强其先进封装光刻设备产品线,扩展了其半导体光刻产品组合,其中包括用于大尺寸基板的FPA-8000iW系统。此次产品组合扩展旨在提高芯片良率,并满足市场对先进半导体封装技术日益增长的需求。