01 소형 고성능 전자 기기에 대한 수요 증가 소형 고성능 기기에 대한 수요 증가로 3D 집적 회로(IC) 시장이 확대되고 있습니다. 3D IC는 여러 층의 회로를 적층하여 처리 속도를 높이고 전체 크기를 최소화함으로써 이러한 요구를 충족합니다. 또한 전력 소비를 줄여 현대 전자 기기에 매우 적합합니다. TSV(Through-Silicon Via) 및 적층 기술의 혁신은 3D IC의 도입을 가속화하고 있습니다. 3D-TSV의 수직 연결은 데이터 전송 속도와 전반적인 기기 성능을 향상시킵니다. 예를 들어, TSMC는 2023년 9월에 3D IC 설계 효율성을 향상시키기 위해 3Dblox 2.0을 출시했습니다. 이 제품은 메모리, 기판, 테스트, 제조 및 패키징 전반에 걸친 통합을 추진하는 동시에 3D 실리콘 스태킹 및 패키징 기술을 발전시키는 3DFabric Alliance의 발전된 기술을 선보였습니다.
2026년 2월:TSMC는 타이중의 팹 20에서 CoWoS-R 첨단 패키징 생산 능력을 확장한다고 발표했습니다. 이는 AI 프로세서 및 차세대 3D IC 통합에 대한 증가하는 수요를 지원하기 위해 생산량을 대폭 늘리는 것을 목표로 합니다.
2026년 1월:인텔은 뉴멕시코 시설에서 3µm 하이브리드 본딩 생산 능력을 갖춘 포베로스 다이렉트(Foveros Direct)를 공개하며, 외부 파운드리 고객을 위한 상용 3D IC 패키징 서비스를 확장했습니다.
2025년 6월:TSMC는 NVIDIA와 AMD를 포함한 AI 칩 개발업체의 증가하는 수요에 대응하기 위해 대만에 새로운 CoWoS-L 및 CoWoS-S 생산 라인을 추가하여 CoWoS 고급 패키징 생산 능력을 확장했습니다.